Oddelenie spracovania surovín je vybavené špecializovanými laboratóriami s XPS a AFM.
XPS : X- ray photoelectron spectroscopy
Röntgenova fotoelektrónová spektroskopia je založená na meraní energetického rozdelenia elektrónov emitovaných z povrchu vzorky vplyvom ožiarenia primárnymi fotónmi alebo elektrónmi. XPS metóda sa bežne používa na povrchovú analýzu anorganických zlúčenín, kovových zliatin, polymérov, biomateriálov, lepidiel, lakov, lekárskych implantátov, iónovo modifikovaných materiálov a mnoho ďalších.
Základnou súčasťou prístroja je röntgenový zdroj a energetický analyzátor. Ako zdroj žiarenia sa najčastejšie používa röntgenová lampa vybavená dvoma anódami: horčíkovou s energiou 1253,6 eV a hliníkovou s hodnotou energie 1486,6 eV.
Energetické analyzátory pracujú ako energetické filtre, v ktorých sa elektróny pohybujú v elektrostatickom poli, pričom systémom prejdú iba elektróny s požadovanou energiou.
AFM (Atomic Force Microscopy)
AFM (Atomic Force Microscopy) zostava využíva zobrazovanie mikro- až nano-skopických objektov na základe vyhodnocovania síl medzi citlivým skenujúcim hrotom a ich povrchom. Súčasne môže slúžiť na štúdium mnohých povrchových fenoménov a vlastností spojených so spracovaním, najmä jemnozrnných surovín.
